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STP系列分子泵
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STP-IXA2206 STP-IXA3306 STP-IXA4506涡轮分子泵
STP-iX455 真空一体式涡轮分子泵
STP-iX455
STP-iX455 涡轮分子泵具有性磁力轴承和电机驱动系统,与上一代涡轮泵相比将振动降低了 50%。采用集成的控制器,不需要使用传统的安装于机架上的控制器及互连电缆,不需要水冷却。 此泵的氮气抽速为 450 ls-1。STP-iX455 极为适合电子显微镜、度量学、光刻和其他对振动的应用。
STP-L451C 真空涡轮分子泵
STP-L451C
低振动真空 STP 泵
STP-XA4503C 真空涡轮分子泵
STP-XA4503C
STP-XA4503C 磁力轴承涡轮分子泵具有很宽的制程范围(从高真空到高流量要求),对气体都具有更高的吞吐量。 此泵基于新的设计,提供功能以改善热管理,从而增强在严苛制程中的性能,提高大制程流能力,并减少腐蚀和沉积的影响。 它设计成既可以处理温和的应用,也可以处理严苛的应用,例如刻蚀、注入、光刻和 FPD 制程。
STP-XA3203C 真空涡轮分子泵
STP-XA3203C
STP-XA3203C 涡轮泵为高真空到 2300 sccm 制程流的制程范围内提供高性能,并提高气体的吞吐量。 此泵基于新的平台设计,提供功能以改善热管理,从而增强在严苛制程中的性能,提高大制程流能力,并减少腐蚀和沉积的影响。 其出色的性能既适用于温和的应用环境,也适用于严苛的环境,例如半导体刻蚀、注入、光刻和 LCD 制程。
STP-XA2703C 真空涡轮分子泵
STP-XA2703C
STP-XA2703C 涡轮泵为高真空到 2300 sccm 制程流的制程范围内提供高性能,并提高气体的吞吐量。 此泵基于新的平台设计,提供功能以改善热管理,从而增强在严苛制程中的性能,提高大制程流能力,并减少腐蚀和沉积的影响。 其出色的性能既适用于温和的应用环境,也适用于严苛的环境,例如半导体刻蚀、注入、光刻和 LCD 制程。
STPA2203C 真空涡轮分子泵
STPA2203C
Edwards STPA2203C 是为半导体应用而设计的涡轮分子泵。它使用的转子,可实现的性能,大的制程灵活性。全新的半机架控制器能够节省更多空间,而且采用直流驱动,无需电池即可运行。STPA2203C 已经由半导体和磁介质行业的大型刻蚀、离子注入和沉积设备制造商投入使用,并得到了。
STPA1603C 真空涡轮分子泵
STPA1603C
小巧而的 Edwards STPA1603C 涡轮分子泵采用 Edwards 的转子进行设计。它提供极高的吞吐量、高的性和的性能,满足半导体制程的需要。其半机架的控制器和紧凑型设计可节省可观的空间,而其的沉积减少系统提高了性和性能。STPA1603C 已经在新的 200 mm 刻蚀工具上得到了证明,也能够满足 300 mm 氧化物腐蚀制程的需要。
STPA1303C 真空涡轮分子泵
STPA1303C
Edwards STPA1303C 是为半导体应用而设计的涡轮分子泵。Edwards 的转子可实现的性能和大的制程灵活性。STPA1303C 已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
STPA803C 真空涡轮分子泵
STPA803C
Edwards STPA803C 涡轮分子泵是为半导体应用而设计的。Edwards 的转子可实现的性能和大的制程灵活性。STPA803C 已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
STPH451C 真空涡轮分子泵
STPH451C
Edwards 的高性能 STPH451C 涡轮分子泵是为严苛的半导体应用而设计的。这种泵经过实践检验的性和的性能可以实现大的制程灵活性。STPH451C 已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
STPH301C 真空涡轮分子泵
STPH301C
Edwards 的高性能 STPH301C 涡轮分子泵是为严苛的半导体应用而设计的。这种泵经过实践检验的性和的性能可以实现大的制程灵活性。STPH301C 已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
STP1003C 真空涡轮分子泵
STP1003C
Edwards 防腐蚀 STP1003C 是的涡轮分子泵,可用于的半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能,大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
STP603 真空涡轮分子泵
STP603
Edwards STP603 是的涡轮分子泵,可用于的半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能,大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
STP-L301C 真空涡轮分子泵
STP-L301C
Edwards 的防腐蚀 STP-L301(C) 用于电子显微镜和半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能,大的制程灵活性。 STP-L301(C) 已经由科学仪器、半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
STP451 真空涡轮分子泵
STP451
Edwards STP451 用于电子显微镜和半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能,大的制程灵活性。STP451 已经由科学仪器、半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
STP301 真空涡轮分子泵
STP301
Edwards STP301 用于电子显微镜和半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能,大的制程灵活性。STP301 已经由科学仪器、半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
SCU-1600 涡轮泵控制器
SCU-1600
数字化的 SCU-1600 涡轮泵控制器与 2000 ls-1 到 4500 ls-1 范围内的 STP 涡轮泵兼容。 它提供性、增强的通信功能以及泵的兼容性,减少了对后备装置的要求并降低了总运行成本。
SCU-800 涡轮泵控制器
SCU-800
Edwards SCU800 涡轮泵控制器是一种数字化的控制器,对于中型泵具有的兼容性。新的 AVR(自动减振)可进一步降低振动级别,而预维护调用功能可以提前通知准确的维护时间。 注重性的设计、增强的通信功能以及的兼容性大大节省了后备装置的开支,使总 C0O 得以降低。
SCU-350A 涡轮泵控制器,带 ABS
SCU-350A
Edwards 新 SCU-350 是一种符合 EU-RoHS 标准、适合小型涡轮泵使用的控制器。 它兼容当前的控制器型号,但是低频范围下的抗振性更好。 它的输入电压也较低,有助于降低电气容量和工具功耗。 SCU-350 的电噪抗扰度更好,配备了通用电压功能,工作电压范围为 100-240 VAC 且无需切换。
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