STP-XA2703C 超高真空涡轮分子泵上海赫哲真空设备有限公司

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产品名称：STP-XA2703C 真空涡轮分子泵
产品型号：STP-XA2703C
产品展商：涡轮分子泵及分子泵机组
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简单介绍

STP-XA2703C 涡轮泵为高真空到 2300 sccm 制程流的制程范围内提供高性能，并提高气体的吞吐量。此泵基于新的平台设计，提供功能以改善热管理，从而增强在严苛制程中的性能，提高大制程流能力，并减少腐蚀和沉积的影响。其出色的性能既适用于温和的应用环境，也适用于严苛的环境，例如半导体刻蚀、注入、光刻和 LCD 制程。

产品描述

概述

STP-XA2703C 涡轮泵为高真空到 2300 sccm 制程流的制程范围内提供高性能，并提高气体的吞吐量。
此泵基于新的平台设计，提供功能以改善热管理，从而增强在严苛制程中的性能，提高大制程流能力，并减少腐蚀和沉积的影响。
其出色的性能既适用于温和的应用环境，也适用于严苛的环境，例如半导体刻蚀、注入、光刻和 LCD 制程。

应用

金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源，射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理：射束线、加速器
放射线应用：融合系统、回旋

功能和优势

的转子设计

增强的 H2、N2 和 Ar 性能
改进了在高真空到 2300 sccm 制程压力范围内的性能
免维护

5 轴磁悬浮系统

无污染
低振动

性转矩管理

获得的转矩减少机械装置

优化的温度管理系统

高温 TMS 能力
低沉积
内置冷却机械装置
更高的气体吞吐量（加热和未加热）
延长寿命
可用于严苛制程

符合 SEMI®，具有 CE 标记，列于 UL 中

数据

入口法兰	VG250
抽速
N2	2650 ls-1
H2	2050 ls-1
压缩比
N2	>108
H2	>6 x 103
极限压力	10-7 Pa
大允许前级压力	266 Pa
大允许气体流量
N2（水冷却）	2300 sccm
	(3.8 Pam3s-1)
Ar（水冷却）	1900 sccm
	(3.2 Pam3s-1)
额定速度	27500 rpm
启动时间	8 min
固定位置	任何方向
水冷却流量	3 lmin-1
水冷却温度	5-25 °C (41-77 °F)
压力	0.3 MPa
的吹扫气体流量	50 sccm (8.4 x 10-2 Pam3s-1)
输入电压	200 至 240 V 交流(± 10)
功耗	1.5 kVA
泵重量	75 kg (165 lb)
控制器重量	12 kg (26.4 lb)

产品目录

产品资料

STP-XA2703C 真空涡轮分子泵

概述

应用

功能和优势

数据