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产品资料

STP603 真空涡轮分子泵

STP603 真空涡轮分子泵
  • 如果您对该产品感兴趣的话，可以
  • 产品名称：STP603 真空涡轮分子泵
  • 产品型号：STP603
  • 产品展商：涡轮分子泵及分子泵机组
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简单介绍
Edwards STP603 是的涡轮分子泵，可用于的半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能，大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了。
产品描述

概述

Edwards STP603 是的涡轮分子泵，可用于的半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能，大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用，并得到了。

应用

  • 金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
  • 电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
  • 薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
  • 溅射
  • 离子注入源，射束线泵送端点站
  • MBE
  • 扩散
  • 光致抗蚀剂脱模
  • 晶体/晶膜生长
  • 晶片检查
  • 负载锁真空腔
  • 科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
  • 高能物理：射束线、加速器
  • 放射线应用：融合系统、回旋
入口法兰 ISO160F
KF40
抽速
  N2 650 ls-1
  H2 550 ls-1
压缩比
  N2 >108
  H2 >105
加热时的极限压力（VG/ISO 法兰） 6.5 x 10-6 Pa

(5 x 10-8 Torr)
加热时的极限压力（ICF 法兰） 10-7 Pa

(10-9 Torr)
大连续压力 13 Pa (0.1 Torr)
额定速度 35000 rpm
启动时间 6 分钟
高入口法兰温度 120 °C
输入电压 100 至 120 (± 10) V 交流或

200 至 240 (± 10) V 交流
启动时的功耗 0.8 kVA
泵重量 31 kg
控制器重量 9 kg
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