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产品资料

iH1000 半导体干式真空泵

iH1000 半导体干式真空泵
  • 如果您对该产品感兴趣的话,可以
  • 产品名称:iH1000 半导体干式真空泵
  • 产品型号:iH1000
  • 产品展商:干式爪型真空泵
  • 产品文档:无相关文档
简单介绍
Edwards 半导体真空泵已经过现场应用证明,可以按照高工作标准运行。通过延长使用寿命、提高运行时间并提高生产率,同时大程度地减小占地面积、降低运行成本,实现了高的性和性能。 iH 系列为难以执行的制程(如存在微粒、易冷凝和腐蚀性副产品的 PECVD 和 LPCVD 制程)提供了高性。
产品描述

概述

Edwards 半导体真空泵已经过现场应用证明,可以按照高工作标准运行。通过延长使用寿命、提高运行时间并提高生产率,同时大程度地减小占地面积、降低运行成本,实现了高的性和性能。
  
iH 系列为难以执行的制程(如存在微粒、易冷凝和腐蚀性副产品的 PECVD 和 LPCVD 制程)提供了高性。

应用

  • 负载锁
  • 输送
  • 计量
  • 平版印刷
  • PVD 制程
  • PVD 预清洁
  • RTA
  • 剥离/灰化
  • 刻蚀
  • 植入源
  • HDP CVD
  • RTP
  • SACVD
  • MCVD
  • PECVD
  • LPCVD
  • ALD

有关任何特定应用条件下 iH 系统稳定性的建议,请与 Edwards 联系。

数据

峰值速度 1000 m3h-1
589 cfm
16670 l min-1
极限真空 1 x 10-3 mbar
7.5 x 10-4 Torr
0.1 Pa
典型轴封氮流量 4 slm
进气口连接 ISO100
连接 NW40
15 psi 压降下典型冷却水流量 240 l h-1
4 l min-1
重量 430 kg
极限功率输入 3.8 kW
电机额定功率 6.1 kW
油容量 1.48 l

  
数字均为无气镇时的典型值。
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