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Edwards真空泵
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产品名称/型号
产品简单介绍
化工干式螺杆真空泵
CDX1000
Edwards CDX1000 代表了干泵。CDX1000 是一种用于化工、制药和石化行业的双头机械装置。 这一体现了 Edwards 的新制造和设计理念。CDX1000 适合规模较大且可重复性及性至关重要的制程流程。它精心选取了合适的和制造制程,是一款耐用、性能出色且操作维护简单的设备。
EDWARDS EDP系列爪式真空泵
EDP400 化工行业爪式干泵
EDP400
EDP 泵基于 Edwards 的获奖的无油、无接触式反向爪式机构。该泵能够以高效和低运行成本稳定地提供真空。干泵能够消除传统湿式真空泵带来的工艺污染和污水问题。
EDP250 化工行业爪式真空泵
EDP250
EDP 泵基于 Edwards 的获奖的无油、无接触式反向爪式机构。该泵能够以高效和低运行成本稳定地提供真空。干泵能够消除传统湿式真空泵带来的工艺污染和污水问题。
EDP160 化工行业 干式爪型真空泵
EDP160
EDP 泵基于 Edwards 的获奖的无油、无接触式反向爪式机构。该泵能够以高效和低运行成本稳定地提供真空。干泵能够消除传统湿式真空泵带来的工艺污染和污水问题。
EDP200 Drystar® 化工干式爪型真空泵
EDP200
Edwards 是干泵的市场者,也是化学制程、制药和精细化工行业干真空的。EDP200 使用历经十余年及全球 80000 套产品实际验证的反向爪式机构,提供清洁而的真空解决方案 这一成熟而耐用的非接触式设计能够控制泵体或定子以及内部气体温度,泵送种类的溶液、易燃品和腐蚀品,并可以衍生出系统化选配型以适应欧盟有关类别 (Zone 0) T4 操作的易爆环境 (ATEX) 指令。
EDP80 化工爪式干泵 干式爪型真空泵
EDP80
EDP 泵基于 Edwards 的获奖的无油、无接触式反向爪式机构。该泵能够以高效和低运行成本稳定地提供真空。干泵能够消除传统湿式真空泵带来的工艺污染和污水问题。
STP-IXA2206 STP-IXA3306 STP-IXA4506涡轮分子泵
STP-iX455 真空一体式涡轮分子泵
STP-iX455
STP-iX455 涡轮分子泵具有性磁力轴承和电机驱动系统,与上一代涡轮泵相比将振动降低了 50%。采用集成的控制器,不需要使用传统的安装于机架上的控制器及互连电缆,不需要水冷却。 此泵的氮气抽速为 450 ls-1。STP-iX455 极为适合电子显微镜、度量学、光刻和其他对振动的应用。
STP-L451C 真空涡轮分子泵
STP-L451C
低振动真空 STP 泵
STP-XA4503C 真空涡轮分子泵
STP-XA4503C
STP-XA4503C 磁力轴承涡轮分子泵具有很宽的制程范围(从高真空到高流量要求),对气体都具有更高的吞吐量。 此泵基于新的设计,提供功能以改善热管理,从而增强在严苛制程中的性能,提高大制程流能力,并减少腐蚀和沉积的影响。 它设计成既可以处理温和的应用,也可以处理严苛的应用,例如刻蚀、注入、光刻和 FPD 制程。
STP-XA3203C 真空涡轮分子泵
STP-XA3203C
STP-XA3203C 涡轮泵为高真空到 2300 sccm 制程流的制程范围内提供高性能,并提高气体的吞吐量。 此泵基于新的平台设计,提供功能以改善热管理,从而增强在严苛制程中的性能,提高大制程流能力,并减少腐蚀和沉积的影响。 其出色的性能既适用于温和的应用环境,也适用于严苛的环境,例如半导体刻蚀、注入、光刻和 LCD 制程。
STP-XA2703C 真空涡轮分子泵
STP-XA2703C
STP-XA2703C 涡轮泵为高真空到 2300 sccm 制程流的制程范围内提供高性能,并提高气体的吞吐量。 此泵基于新的平台设计,提供功能以改善热管理,从而增强在严苛制程中的性能,提高大制程流能力,并减少腐蚀和沉积的影响。 其出色的性能既适用于温和的应用环境,也适用于严苛的环境,例如半导体刻蚀、注入、光刻和 LCD 制程。
STPA2203C 真空涡轮分子泵
STPA2203C
Edwards STPA2203C 是为半导体应用而设计的涡轮分子泵。它使用的转子,可实现的性能,大的制程灵活性。全新的半机架控制器能够节省更多空间,而且采用直流驱动,无需电池即可运行。STPA2203C 已经由半导体和磁介质行业的大型刻蚀、离子注入和沉积设备制造商投入使用,并得到了。
STPA1603C 真空涡轮分子泵
STPA1603C
小巧而的 Edwards STPA1603C 涡轮分子泵采用 Edwards 的转子进行设计。它提供极高的吞吐量、高的性和的性能,满足半导体制程的需要。其半机架的控制器和紧凑型设计可节省可观的空间,而其的沉积减少系统提高了性和性能。STPA1603C 已经在新的 200 mm 刻蚀工具上得到了证明,也能够满足 300 mm 氧化物腐蚀制程的需要。
STPA1303C 真空涡轮分子泵
STPA1303C
Edwards STPA1303C 是为半导体应用而设计的涡轮分子泵。Edwards 的转子可实现的性能和大的制程灵活性。STPA1303C 已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
STPA803C 真空涡轮分子泵
STPA803C
Edwards STPA803C 涡轮分子泵是为半导体应用而设计的。Edwards 的转子可实现的性能和大的制程灵活性。STPA803C 已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
STPH451C 真空涡轮分子泵
STPH451C
Edwards 的高性能 STPH451C 涡轮分子泵是为严苛的半导体应用而设计的。这种泵经过实践检验的性和的性能可以实现大的制程灵活性。STPH451C 已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
STPH301C 真空涡轮分子泵
STPH301C
Edwards 的高性能 STPH301C 涡轮分子泵是为严苛的半导体应用而设计的。这种泵经过实践检验的性和的性能可以实现大的制程灵活性。STPH301C 已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
STP1003C 真空涡轮分子泵
STP1003C
Edwards 防腐蚀 STP1003C 是的涡轮分子泵,可用于的半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能,大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
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