真空镀膜机操作程序具体操作

真空镀膜机操作程序具体操作

    真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。真空镀膜机是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且*终沉积在基片表面，经历成膜过程，*终形成薄膜。检查真空镀膜机各操作控制开关是否在"关"位置。打开总电源开关，设备送电。低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物。落下钟罩。启动抽真空机械泵。开复合真空计电源（复合真空计型号：Fzh-1A)。**钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至110mA时，**钮"1"旋转至指向2区段测量位置。当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时，低压阀推入。这时**钮“1”旋转至指向1区段测量位置。真空镀膜机开通冷却水，启动扩散泵，加热40min。低压阀拉出。重复一次动作程序：左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至6.7Pa时，开高压阀（阀杆顺时针旋转）。等低真空表“2”内指针右移动至0.1Pa时，开规管灯丝开关。 
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