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EMI溅射镀膜

EMI溅射镀膜

什么是EMI

    电磁兼容性(Electromagnetic Compatibility)缩写EMC,就是指某电子设备既不干扰其它设备,同时也不受其它设备的影响。电磁兼容性和我们所熟悉的**性一样,是产品质量*重要的指标之一。**性涉及人身和财产,而电磁兼容性则涉及人身和环境保护。

   电磁波会与电子元件作用,产生干扰现象,称为EMI(Electromagnetic Interference)。例如,TV荧光屏上常见的“雪花”便表示接受到的讯号**扰。

EMI溅射镀膜的原理


原理说明:
1.
在高度真空状态下,充入适量氩气;
2.
施以高压直流电,将氩气电离成氩离子,加速撞击金属靶材,溅射出金属离子;
3.
金属离子在电场中加速溅射在基材(塑壳)上,形成金属离子薄膜。

 

 

真空溅镀EMI的应用范围
   
真空溅镀EMI具有高导电性和高电磁屏蔽效率等特点,广泛应用于通讯制品(移动电话)、电脑(笔记本)、便携式电子产品、消费电子、网络硬件(服务器等)、医疗仪器、家用电子产品和航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽。

   适用于各种塑胶制品的金属屏蔽(PC、PC+ABS、ABS等)。

EMI溅射镀膜的特点

   真空技术是结合机械、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业,亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛,运用对象包括光电、半导体和LCD产业等,近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之制造设备,更是成长迅速。

   EMI溅射镀膜具有以下特点:

价格低(国内拥有自主知识产权的话)。
真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5~2μm,**不影响装配。

真空溅射是彻底的环保制程,**环保无污染。

欲溅射材料���限制, 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用(例:铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽SiO2等)。

被溅射基材几无限制(ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等)。

膜质致密均匀、膜厚容易控制。

附著力强(ASTM3599方法测试4B)。

可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且,可随客户指定变换镀层次序。

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