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技术文章

真空镀膜的发展趋势


     真空泵维修 ,蒸发,溅射镀膜和离子镀等通常称为物**相沉积法,是基本的薄膜制备。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以,真空是薄膜制作的基础,获得并保持所需的真空环境,是镀膜的必要条件。
真空系统的种类繁多。在实际工作中,必须根据自己的工作重点进行选择。典型的真空系统包括:获得真空的设备(真空泵),待抽空的容器(真空室),测量真空的器具(真空计)以及必要的管道,阀门和其它附属设备。
     科技发展愈来愈快,信息高速公路,数字地球等新概念的提出,影响和带动了全球的发展,目前,生命科学,环保科技,材料科学和纳米科技使重点研究的;纳米科技中又以纳米电子学为优先研究。
     目前计算机和信息的基础使大规模继承电路;但下个世纪的基本元件将是纳米电子集成电路。它是微电子器件的下一代,有自己的理论,和材料。现有微电子器件的主要材料是极纯的硅,锗等晶体半导体。纳米电子器件有可能是以有机或无机复合晶体薄膜为主要原理,要求纯度更高,结构更完善。真空制备的清洁环境,有希望加工组装出纳米电子器件所要求的结构。
     总之,表面和薄膜科学,微电子器件及纳米等迅速发展,将使一起和检测方法体系研究成为真空镀膜中的发展重点;而电子束蒸发源将是真空镀膜中的一种重要的加热方法和发展方向。

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