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真空镀膜机是一种能够在真空环境中，将金属、合金或其他材料蒸发、溅射或化学气相沉积到基材表面形成薄膜的设备。真空镀膜的核心是通过物理或化学方式使材料在气相中转变为固体，在基材表面形成膜层，膜层的厚度可以控制在纳米到微米级别。

真空镀膜机的工作原理主要包括以下几个步骤：

1. 真空环境的创建：在镀膜开始之前，首先需要将镀膜室内的气压降低到真空状态。这通常通过抽真空泵实现，泵送过程中会将空气分子排出，从而减少气体碰撞，提高后续工艺的效率和效果。

2. 材料的蒸发或溅射：

蒸发镀膜：在真空条件下加热待镀膜材料，使其蒸发形成气相。常见的蒸发材料包括金、银、铝等金属。这些蒸汽分子在扩散的过程中会以随机的方式碰撞到基材表面并冷凝，形成薄膜。

溅射镀膜：利用高能粒子轰击待镀膜材料（靶材），将靶材原子或分子溅射出来并沉积到基材上。此方法适用于高熔点材料及氧化物材料，且可以获得质量更好的薄膜。

3. 沉积过程的控制：在镀膜过程中，需要**控制沉积速率、温度、气体流量等参数，以确保膜层的均匀性和附着力。现代化的真空镀膜机通常配备有闭环反馈系统来实时监测和调整这些参数。

4. 冷却与后处理：镀膜完成后，基材会被冷却至室温，并可根据需求进行后处理，例如热处理、刻蚀等，以进一步改善膜层性能。

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